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Publication number: HR02-1005797579, Commercial Registry Office Zurich, (20)
HeiQ Materials AG, in Schlieren, CHE-112.274.504, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 44 vom 03.03.2023, Publ. 1005691939).
Ausgeschiedene Personen und erloschene Unterschriften:
Nassl, Walter, deutscher Staatsangehöriger, in Affing (DE), Direktor, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Vermeersch, Lode, belgischer Staatsangehöriger, in Müllheim (DE), Direktor, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Salathe, Ralph, deutscher Staatsangehöriger, in Freiburg (DE), Vizedirektor, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Kerner, Tobias, deutscher Staatsangehöriger, in Zürich, mit Kollektivunterschrift zu zweien;
Schweizer, Nicolas Martin, von Basel, in Neerach, mit Kollektivunterschrift zu zweien.
Publication number: 4251085, Commercial Registry Office Zurich, (20)
HeiQ Materials AG, in Schlieren, CHE-112.274.504, Aktiengesellschaft (SHAB Nr. 6 vom 10.01.2018, Publ. 3978561).
Statutenänderung:
15.05.2018.
Aktienkapital neu:
CHF 2'688'415.00 [bisher: CHF 2'662'865.00].
Liberierung Aktienkapital neu:
CHF 2'688'415.00 [bisher: CHF 2'662'865.00].
Aktien neu:
537'683 Namenaktien zu CHF 5.00 [bisher: 532'573 Namenaktien zu CHF 5.00]. Kapitalerhöhung aus bedingtem Aktienkapital.
Eingetragene Personen neu oder mutierend:
Nelson, Christopher E, amerikanischer Staatsangehöriger, in Cumming / IA (US), Mitglied des Verwaltungsrates, ohne Zeichnungsberechtigung;
Smith, Michael H., genannt Mike, amerikanischer Staatsangehöriger, in Concord / NC (US), Mitglied des Verwaltungsrates, ohne Zeichnungsberechtigung;
Nassl, Walter, deutscher Staatsangehöriger, in Affing (DE), Direktor, mit Kollektivunterschrift zu zweien.